Before | After | |
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장비 | 공정 | OEM P/N |
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제품명 |
SOURCE FAN_OPUS |
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MODEL |
4715KL-05W-B49 |
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적용 |
ETCH AMAT OPUS |
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SPEC |
DC 24V / 0.46A |
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주납품처 |
SK-Hynix |
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제품설명 |
개선 사항 기존 fan RPM 증가 : 3150 → 3700 기존 2 개의 fan이 5 개로 증가 Chamber 내의 air circulation 개선 위한 기존 2 개 fan 부분 밀폐 개선 효과 Wafer 공정 Map unifromity 향상 Lid heater와 Ceramic plate 사이의 Polymer 형성이 사라짐. |
구분 | 내용 |
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제품명 |
TiCL4 DLI & Gate V/V Controller |
재질 |
기타 |
적용 |
TEL TiCL4 장비 |
Oper. Temp. |
Max. 150~200℃ |
주납품처 |
SK-Hynix |
제품설명 |
Ti/TiN Dep 공정용 TEL TRIAS 장비에서 PM 時 Temp Down으로 인한 TiCL4 공급부품(MFM + VC) 막힘 및 Gate Valve 진공 Leak를 방지하는데 사용 PM 時 MFM 및 VC, Gate V/V Ass'y가 항상 Setting Temp를 유지할 수 있도록 온도 제어 가능(사용 온도 : 0~200℃ 가능) |